周口供應噸電鍍去離子高純水設備 超純水系統(tǒng)

周口供應噸電鍍去離子高純水設備 超純水系統(tǒng)

周口供應噸電鍍去離子高純水設備 超純水系統(tǒng)

詳細說明:

EDI應用領域

1、電廠化學水處理

2,、電子,半導體行業(yè)超純水

3,、精密機械行業(yè)高純水

4、制藥工業(yè)工藝用水

5,、實驗室研究用高純水

6,、精細化工,精尖學科用水

7、-行業(yè)所需的高純水制備

EDI 膜塊及您選配的配套電源是屬于帶電工作產品,因此,在進行EDI 產品使用時,應有以下措施予以保
證:
1,、定期檢查各個接線端子的接線是否牢靠穩(wěn)固.
2,、處理電器故障或更換電器元件時,必須由專業(yè)的持照電氣人員進行.
3、EDI 設備工作時,禁止拆卸電源線.
4,、不可將任何雜物,、工具等物品放置在 EDI 膜塊上面.
5、若發(fā)生 EDI 膜塊滲水或泄漏情況時,應及時停止設備運行,并通知專業(yè)維護人員進行檢查處理.

為了保證EDI 膜塊在使用中能發(fā)揮的效果,必要
的進水條件,是需要滿足的.
水源 反滲透RO 產水;電導率≤20μS/cm
硬度 ≤(以CaCO3 計)
PH 值 ‐\‐
溫度 5℃‐\‐38℃
總CO2 小于3ppm,當CO2 含量大于3ppm 時,可加
NaOH 調節(jié)PH 值
進水壓力 —
有機物 TOC 小于,建議檢測不出
氧化劑 活性氯(Cl2)小于;
臭氧(O3)小于
-氧化劑小于
重金屬離子 小于 Fe,、Mn,、變價性金屬離子
硅 小于(以SiO2 計)