TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀 |
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TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀是奧地利兩位科學(xué)家發(fā)明的非接觸式頂空分析儀,無(wú)損殘氧儀,,專門應(yīng)用在氣調(diào)包裝和制藥殘氧檢測(cè)行業(yè),,TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀是MAP食品包裝廠和如大輸液,安剖瓶,,抗生素,,-劑等藥品行業(yè)的殘氧檢測(cè)應(yīng)用。
TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀
詳細(xì)介紹:TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀是奧地利兩位科學(xué)家發(fā)明的非接觸式頂空分析儀,無(wú)損殘氧儀,,專門應(yīng)用在氣調(diào)包裝和制藥殘氧檢測(cè)行業(yè),,TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀是MAP食品包裝廠和如大輸液,安剖瓶,,抗生素,,-劑等藥品行業(yè)的殘氧檢測(cè)應(yīng)用。
· 光化學(xué)方法的頂空分析儀不僅可以測(cè)量氣體中的氧氣含量,,還以測(cè)量液體中的氧氣含量,。
· 傳感器通過(guò)光電化學(xué)點(diǎn)的透明包裝
· 光電化學(xué)點(diǎn)可作為粘合劑或打印點(diǎn)
· 無(wú)需氣體抽出– 對(duì)于小氣量和液體非常適合
· 光電化學(xué)點(diǎn)工廠校準(zhǔn)
· 自檢程序
· 測(cè)試時(shí)間 < 3s
· TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀
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性能 |
氣體 |
液體 |
測(cè)試范圍 |
0.05 – 25% Vol.% |
0 – 10 (20)mg/L |
準(zhǔn)確度: |
± 0.02% oder < ±2% from value |
± 0.05mg/l oder < ±2% from value |
分辨率: |
0.02% |
<0.02mg/l |
響應(yīng)時(shí)間: |
< 1 s |
Abh?ngig
von der Schutzklasse |
校準(zhǔn): |
20° / 25° / 37° |
·
制藥與生物技術(shù)
?食品工業(yè)/地圖包裝
細(xì)菌學(xué).(病原體)微生物生長(zhǎng)的檢測(cè).生物化學(xué)和分子生物學(xué)的研究與開發(fā)
絕緣玻璃工業(yè)
· 更多TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀請(qǐng)致電英肖儀器021-66015906
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