該立式化學氣相沉積爐可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層,、基體改性等。

技術特征
采用先進的控制技術,，能精密控制MTS的流量和壓力,，爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定，壓力波動范圍小,；
采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室,，密封效果好，抗污染能力強,； 
采用多通道沉積氣路,，流場均勻，無沉積死角,，沉積效果好,；
對沉積產(chǎn)生的高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體,、固體粉塵及低熔點粘性產(chǎn)物能進行有效處理,；
采用最新設計防腐蝕真空機組，持續(xù)工作時間長,，維修率極低,。

主要配置
爐門：絲杠升降/液壓升降/手動升降；手動鎖緊/自動鎖圈鎖緊      
爐殼：全碳鋼/內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼
爐膽：軟碳氈/軟石墨氈/硬質(zhì)復合氈/CFC   
加熱器,、馬弗：等靜壓石墨/模壓三高石墨/細顆粒石墨
工藝氣路系統(tǒng)：體積/質(zhì)量流量計,；手動閥/自動閥；進口/國產(chǎn) 
真空泵和真空計：進口/國產(chǎn)
PLC：歐姆龍/西門子              
控溫儀表：日本島電/英國歐陸 
熱電偶：C分度號/S分度號/K分度號/B分度號  
記錄儀：無紙記錄儀/有紙記錄儀,；進口/國產(chǎn)
人機界面：模擬屏/觸摸屏/工控機                                 
電器元件：正泰/施耐德/西門子

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