廣電計量可以做AEC-Q-100認證報告,AEC-Q-101認證報告,AEC-Q-102認證報告, AEC-Q-104認證報告,AEC-Q-200認證報告,元器件篩選,破壞性物理分析,NVH測試

     廣州廣電計量檢測股份有限公司(股票簡稱:廣電計量,股票代碼:002967)始建于1964年,是原信息產業(yè)部電子602計量站,經過50余年的發(fā)展,現已成為一家全國化,、綜合性的國有第三方計量檢測機構,專注于為客戶提供計量,、檢測,、認證以及技術咨詢與培訓等專業(yè)技術服務,在計量校準,、可靠性與環(huán)境試驗,、電磁兼容檢測等多個領域的技術能力及業(yè)務規(guī)模處于國內領先水平.

     隨著納米科技的發(fā)展,納米尺度制造業(yè)發(fā)展迅速,而納米加工就是納米制造業(yè)的核心部分,納米加工的代表性方法就是聚焦離子束.近年來發(fā)展起來的聚焦離子束(FIB)技術利用高強度聚焦離子束對材料進行納米加工,配合掃描電鏡(SEM)等高倍數電子顯微鏡實時觀察,成為了納米級分析,、制造的主要方法.目前已廣泛應用于半導體集成電路修改,、切割和故障分析等.

 2.原理

聚焦離子束(Focused Ion beam, FIB)的系統是利用電透鏡將離子束聚焦成非常小尺寸的顯微切割儀器,目前商用系統的離子束為液相金屬離子源(Liquid metal Ion Source,LMIS),金屬材質為鎵(Gallium, Ga),因為鎵元素具有低熔點,、低蒸氣壓,、及良好的抗氧化力;典型的離子束顯微鏡包括液相金屬離子源、電透鏡,、掃描電極,、二次粒子偵測器、5-6軸向移動的試片基座,、真空系統,、抗振動和磁場的裝置、電子控制面板,、和計算機等硬設備,外加電場于液相金屬離子源,可使液態(tài)鎵形成細小尖端,再加上負電場(Extractor) 牽引尖端的鎵,而導出鎵離子束,在一般工作電壓下,尖端電流密度約為1埃10-8 Amp/cm2,以電透鏡聚焦,經過一連串變化孔徑 (Automatic Variable Aperture, AVA)可決定離子束的大小,再經過二次聚焦至試片表面,利用物理碰撞來達到切割之目的,結構示意圖如下圖:

3.應用

 聚焦離子束系統除了具有電子成像功能外,由于離子具有較大的質量,經過加速聚焦后還可對材料和器件進行蝕刻,、沉積、離子注入等加工.

4.聚焦離子束的發(fā)展

 聚焦離子束現已發(fā)展成與SEM等設備聯用.FIB-SEM雙系統可以在高分辨率掃描電鏡顯微圖像監(jiān)控下發(fā)揮聚焦離子束的超微細加工能力.

在FIB-SEM雙束系統中,聚焦離子束和電子束優(yōu)勢互補.離子束成型襯度大,但存在損傷樣品和分辨率低的缺點,電子束激發(fā)的二次電子成像分辨率高,、對樣品損傷小,但襯度較低,兩者組合可獲得更清晰準確的樣品表面信息.